电镀测厚仪-测厚仪-一六仪器

江苏一六仪器   x射线荧光光谱仪xtu/x-ray系列 

技术参数

x射线装置：w靶微---加强型射线管

准直器φ 0.05 mm  ；φ 0.1 mm；φ 0.2 mm；φ 0.5 mm； 准直器任意选择或者任意切换

近测距光斑扩散度：9%

测量距离：具有距离补偿功能，可改变测量距离，能测量凹凸异型样品，变焦距离0-30mm(特殊要求可以升级到90mm)

样品观察：1/2.5彩色ccd，变焦功能对焦方式高敏感镜头，手动对焦

放大倍数：光学38-46x，数字放大40-200倍

随机标准片：十二元素片、ni/fe 5um、au/ni/cu 0.1um/2um 

其它附件：联想电脑一套、喷墨打印机、附件箱

一六仪器 测厚仪 多道脉冲分析采集，---efp算法  x射线荧光镀层测厚仪

应用于电子元器件，led和照明，家用电器，通讯，汽车电子领域.efp算法结合---定位决了各种大小异形多层多元素的涂镀层厚度和成分分析的业界难题

薄膜是指在基板的垂直方向上所堆积的1～104的原子层或分子层。在此方向上，薄膜具有微观结构。

     理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之间的距离。由于薄膜仅在厚度方向是微观的，其他的两维方向具有宏观大小。所以，表示薄膜的形状，一定要用宏观方法，光谱测厚仪，即采用长、宽、厚的方法。因此，膜厚既是一个宏观概念，又是微观上的实体线度。

      由于实际上存在的表面是不平整和连续的，而且薄膜内部还可能存在着、杂质、晶格缺陷和表面吸附分子等，所以，要严格地定义和测量薄膜的厚度实际上是比较困难的。膜厚的定义应根据测量的方法和目的来决定。  

---模型认为物质的表面并不是一个抽象的几何概念，而是由刚性球的原子（分子）紧密排列而成，是实际存在的一个物理概念。

形状膜厚：dt是接近于直观形式的膜厚，通常以um为单位。dt只与表面原子（分子）有关，并且包含着薄膜内部结构的影响；

膜厚：dm反映了薄膜中包含物质的多少，通常以μg/cm2为单位，它消除了薄膜内部结构的影响（如缺陷、、变形等）；

物性膜厚：dp在实际使用上较有用，而且比较容易测量，它与薄膜内部结构和外部结构无直接关系，主要取决于薄膜的性质（如电阻率、透射率等）。