光谱膜厚仪-测厚仪-江苏一六仪器

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    2020-8-22

邓女士
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一六仪器 测厚仪 多道脉冲分析采集,---efp算法  x射线荧光镀层测厚仪

应用于电子元器件,led和照明,家用电器,通讯,汽车电子领域.efp算法结合---定位决了各种大小异形多层多元素的涂镀层厚度和成分分析的业界难题

镀层厚度分析仪的测量方法主要有:楔切法,光截法,电解法,厚度差测量法,称重法,x射线荧光法,β射线反向散射法,镀层膜厚仪,电容法、磁性测量法及涡流测量法等等。这些方法中---种是有损检测,镀层测厚仪,测量手段繁琐,速度慢,多适用于抽样检验。

x射线和β射线法是无接触无损测量,测量范围较小,x射线法可测极薄镀层、双镀层、合金镀层。β射线法适合镀层和底材原子序号大于3的镀层测量。电容法仅在薄导电体的绝缘覆

层测厚时采用。








     江苏一六仪器有限公司是一家---于光谱分析仪器研发、生产、销售的---企业。公司位于上海和苏州中间的昆山市城北高新区。我们---研发团队具备十年以上的从业经验,经与海内外多名---通力合作,研究开发出一系列能量色散x荧光光谱仪

  x射线荧光光谱测厚仪原理

    一个内层电子而出现一个空穴,使整个原子体系处于不稳定的激发态,激发态原子寿命约为 (10)-12-(10)-14s,然后自发地由能量高的状态跃迁到能量低的状态。这个过程称为驰豫过程。驰豫过程既可以是非辐射跃迁,也可以是辐射跃迁。当较外层的电子跃迁到空穴时,所释放的能量随即在原子内部被吸收而逐出较外层的另一个次级光电子,此称为俄歇效应,亦称次级光电效应或无辐射效应,所逐出的次级光电子称为俄歇电子。

     它的能量是特征的,测厚仪,与入射辐射的能量无关。当较外层的电子跃入内层空穴所释放的能量不在原子内被吸收,而是以辐射形式放出,便产生x射线荧光,其能量等于两能级之间的能量差。因此,x射线荧光的能量或波长是特征性的,与元素有一一对应的关系。 k层电子被逐出后,其空穴可以被外层中 任一电子所填充,从而可产生一系列的谱线,称为k系谱线:由l层跃迁到k层辐射的x射线叫kα射线,由m层跃迁到k层辐射的x射线叫kβ射线……。


江苏一六仪器    x射线荧光光谱测厚仪

产品配置

x光金属镀层测厚仪标准配置为:x射线管,正比计数器﹨半导体探测器,高清---头,高度激光,光谱膜厚仪,信号检测电子电路。

性能指标

x射线激发系统 垂直上照式x射线光学系统

空冷式微---型x射线管,be窗

标准靶材:rh靶;任选靶材:w、mo、ag等

x射线管:管电压50kv,管电流1ma

可测元素:ci~u

检测器:正比计数管

样品观察:ccd---头

测定软件:薄膜fp法、检量线法

z轴程控移动高度 20mm



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